形状解析レーザ顕微鏡 VK-X シリーズ

コントローラ部 VK-X1000

こちらの商品は、生産終了となりました。以下の推奨代替機種をご覧ください。

ご不明点は、お電話でもお伺いいたします。(フリーダイヤル:0120-100-470 お気軽にお問い合わせください)

規格認証への適合状況は、当社からの出荷日時点の情報となります。

推奨代替機種


写真は使用イメージを表現していることがあります。商品には含まれない場合がありますのでご注意ください。
VK-X1000 - コントローラ部

仕様

型式

VK-X1000

種類

コントローラ部

総合倍率

~ 28800 倍 *1

視野 (最小視野範囲)

11 µm ~ 7398 µm

フレームレート (レーザ測定スピード)

4 ~ 125 Hz、7900 Hz *2

測定原理

光学系

ピンホール共焦点光学系、フォーカスバリエーション

受光素子

16 bit センシングフォトマルチプライヤ/超高精細カラーCMOS

スキャン方式 (通常測定時及び画像連結時)

自動上下限設定機能、高速光量最適化機能 (AAGⅡ) 、反射光量不足補完機能 (ダブルスキャン)

高さ測定

表示分解能

0.5 nm (VK-X1100) 、5 nm (VK-X1050)

リニアスケール

高さフレームメモリ

24 bit (VK-X1100) 、21 bit (VK-X1050)

繰り返し精度 σ

レーザーコンフォーカル

×10 100 nm、×20 40 nm、×50 12 nm (VK-X1000/1100)
×10 100 nm、×20 40 nm、×50 20 nm (VK-X1000/1050)

フォーカスバリエーション

×5 500 nm、×10 100 nm、×20 50 nm、×50 20 nm (VK-X1000/1100)
×5 500 nm、×10 100 nm、×20 50 nm、×50 30 nm (VK-X1000/1050)

高さデータ取得範囲

70万 ステップ

正確さ

0.2 + L/100 µm 以下 (L = 測定長 µm) *3

幅測定

表示分解能

1 nm (VK-X1100) 、10 nm (VK-X1050)

繰り返し精度 3σ

レーザーコンフォーカル

×10 200 nm、×20 100 nm、×50 40 nm (VK-X1000/1100)
×10 400 nm、×20 100 nm、×50 50 nm (VK-X1000/1050)

フォーカスバリエーション

×5 400 nm、×10 400 nm、×20 120 nm、×50 50 nm (VK-X1000/1100)
×5 400 nm、×10 400 nm、×20 120 nm、×50 65 nm (VK-X1000/1050)

正確さ

測定値の ±2 % 以内 *3

XYステージ構成

手動 稼働範囲

70 mm x 70 mm

電動 稼働範囲

100 mm x 100 mm

観察

観察画像

超高精細カラーCMOS画像、16 bitレーザカラー共焦点画像、共焦点 + NDフィルタ光学系、C - レーザ微分干渉画像

照明

リング照明、同軸落射照明

測定用レーザ光源

波長

紫色半導体レーザ 404 nm (VK-X1100)
赤色半導体レーザ 661 nm (VK-X1050)

最大出力

1 mW

クラス

クラス2 (JIS C6802)

電源

電源電圧

AC100 ~ 240 V、50/60 Hz

消費電流

150 VA

質量

約3.0 kg

*1 23 型モニタ - 画面上での倍率 (フル画面表示のとき) 。
*2 測定モード/測定品質/レンズ倍率組み合わせの中で最速の場合。ラインスキャンは、測定ピッチが0.1 µm以内時。
*3 標準試料 (基準スケール) を、20 倍 以上のレンズで測定した時。