ヘッド部 VK-X3050
仕様
型式 | VK-X3050 | |||
種類 | ヘッド部 | |||
総合倍率 | 42〜28800倍*1 | |||
視野範囲 | 11〜7398 μm | |||
測定原理 | レーザー共焦点、フォーカスバリエーション、白色干渉、分光干渉 | |||
レーザ光源波長 | 半導体レーザ661 nm | |||
最高レーザ測定スピード | 面:125 Hz、線:7900 Hz*2 | |||
レーザ最大出力 | 0.9 mW | |||
レーザクラス | クラス2(JIS C6802) | |||
レーザ受光素子 | 16bitセンシングフォトマルチプライヤ | |||
白色光源 | 白色LED | |||
白色光受光素子 | 超高精細カラーCMOS | |||
レーザ共焦点 | 高さ表示分解能 | 1 nm | ||
高さ繰り返し精度 σ | ×10:100 nm、×20:40 nm、×50:20 nm | |||
高さ正確さ | 0.2+L/100 μm以下*3 | |||
幅表示分解能 | 1 nm | |||
幅繰り返し精度 3σ | ×10:400 nm、×20:100 nm、×50:50 nm | |||
幅正確さ | 測定値の±2%以内*3 | |||
フォーカスバリエーション | 高さ表示分解能 | 1 nm | ||
高さ繰り返し精度 σ | ×5:500 nm、×10:100 nm、×20:50 nm、×50:30 nm | |||
高さ正確さ | 0.2+L/100 μm以下*3 | |||
幅表示分解能 | 1 nm | |||
幅繰り返し精度 3σ | ×5:400 nm、×10:400 nm、×20:120 nm、×50:65 nm | |||
幅正確さ | 測定値の±2%以内*3 | |||
白色干渉 | 高さ表示分解能 | 0.01 nm | ||
幅表示分解能 | 0.1 nm | |||
Surface Topography Repeatability | 0.08 nm*4 | |||
Repetability of RMS | 0.008 nm*4 | |||
分光干渉膜厚測定 | 繰り返し精度 σ | 0.1 nm*4 | ||
正確さ | ±0.6%*4 | |||
光学観察 | 画素数 | 560万 | ||
レボルバ― | 6穴電動レボルバ― | |||
リング照明対応レンズ | ×2.5、×5、×10 | |||
光学ズーム | 1〜8倍 | |||
XYステージ構成 | 手動稼働範囲 | 70×70 mm | ||
電動稼働範囲 | 100×100 mm | |||
電源 | 電源電圧 | AC100〜240 V、50/60 Hz | ||
消費電力 | 150 VA | |||
耐環境性 | 使用周囲温度 | +15〜28 ℃ | ||
使用周囲湿度 | 20〜80% RH(結露なきこと) | |||
質量 | 約13 kg | |||
*1 23型モニター画面上でのフル画面表示の時の倍率 |
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